エミネントⅢ - 東京化工機株式会社

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エミネント

エミネントシリーズ新世代エッチング装置

エミネントⅢ

固定式シャワー管のエミネントシリーズを発売以来、性能向上を目的に改善を進めて参りました。
この度エミネントシリーズ新世代装置である「エミネントⅢ」をラインナップに追加致しました。

ユニフォミティ(均一性)の改善当社デモ機比 (薬液:塩化第二銅)

ユニフォミティ(均一性)の改善

ワーク表面の液流れを改善することでユニフォミティが約4%改善し品質の向上・安定性に寄与します。

 エミネントⅡエミネントⅢ
エッチング時間 75 sec 58 sec
スプレイ圧 0.18 MPa 0.18 MPa
偏差値 1.01 μm 0.56 μm
レンジ 4 μm 2.8 μm

エッチレートの向上当社デモ機比 (薬液:塩化第二銅)

エッチレートの向上

液量、液流れを改善しエッチレートが約14%向上した事で生産性のアップに貢献します。

基板条件
銅厚 18μm
DF厚 20μm
基材厚 0.15mm
L/S 25/25μm
補正L/S なし

エッチファクターの向上当社デモ機比 (薬液:塩化第二銅)

エッチレートの向上

スプレー圧を変えることなく基板への打力を改善した事でエッチファクターが向上しました。

基板条件
銅厚 18μm
DF厚 15μm
基材厚 0.15mm
L/S 30/30μm
補正L/S 40/20μm

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